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NEWS INFORMATIONSensofar 十分高興地宣布推出可選模塊Linnik 干涉物鏡。Linnik 物鏡設(shè)計(jì)用于獲得位于透明材料深處的表面或很難接觸到的表面的干涉圖像。Linnik 物鏡的光機(jī)械設(shè)計(jì)包含兩種相同的物鏡——一種是用于參考表面的物鏡,另一種是用于需檢測表面的物鏡。
結(jié)合兩種明場物鏡提供了各種可能性??梢允褂贸L工作距離(SLWD)物鏡、高數(shù)值孔徑物鏡、水浸物鏡或具有傳統(tǒng)干涉儀不具備規(guī)格的任何物鏡組。物鏡組可以是兩個(gè)50x 放大倍率的SLWD,用于測量PSI 傾斜表面,例如硅片,45 度斜率也不會碰觸到物鏡。另外,還可以使用一組20x 放大倍率的EPI,用于獲得由玻璃保護(hù)水中所含的蛋白質(zhì)晶體的圖像。
盡管Linnik 物鏡有很多優(yōu)點(diǎn),但它很難使用,且需要專業(yè)的對準(zhǔn)技巧。通常會通過干涉濾光片使用長相干性光源,如綠色或紅色LED。
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