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掃描電鏡是一種廣泛應用于材料科學、半導體工藝等領域的*備工具，它可以通過探測樣品表面激發(fā)出來的電子信號，對物質(zhì)微觀形貌進行表征。在半導體工藝中，掃描電子顯微鏡被廣泛應用于器件結(jié)構的實時檢測和剖面分析方面，為生產(chǎn)和研發(fā)提供了其他測試分析儀器所無法提供的直接測量信息。澤攸科技的ZEM18掃描電鏡，可以實現(xiàn)高分辨率的表面形貌觀測、元素分析、晶體結(jié)構分析等功能，適用于半導體材料的表征和分析。我們的掃描電鏡可以幫助客戶實現(xiàn)器件結(jié)構的實時檢測和剖面分析，提高半導體器件的制造質(zhì)量和性能穩(wěn)定...

近期，加拿大多倫多大學YuZou課題組與北京大學高鵬課題組、美國愛荷華州立大學QiAn課題組、加拿大達爾豪斯大學PenghaoXiao課題組合作，報道了利用電場控制位錯運動，他們通過原位和原子尺度電鏡表征結(jié)合理論計算揭示了電場控制位錯運動的機制。該研究成果以“利用電場控制位錯移動”（Harnessingdislocationmotionusinganelectricfield）為題，于6月19日發(fā)表在《自然-材料》（NatureMaterials）。位錯是晶體中常見的線缺陷，...

液晶顯示器(LiquidCrystalDisplay,LCD)是當前社會中應用非常多的顯示器，在日常生活中隨處可見。LCD主要由彩色濾光片基板(Colorfilter，CF)、TFT陣列(TFTArray)基板和背光模塊(Backlightunit)三大部分所組成。TFTLCD面板結(jié)構（圖片來源于網(wǎng)絡）在這三大組成部分里面，背光模塊對LCD非常重要，因為背光質(zhì)量決定了液晶顯示屏的亮度、出射光均勻度、色階等重要參數(shù)，決定了液晶顯示器的發(fā)光效果。在背光模塊中有一層非常重要的光學薄...

每當發(fā)生命案，社會廣泛關注，盡早破案，最快找到兇手是每個人的心聲。但是隨著*罪分子反偵察技術不斷提高，作案手段智能化發(fā)展趨勢，*罪分子通過毀滅證據(jù)，*裝現(xiàn)場等手段，掩蓋或破壞*罪現(xiàn)場，使得刑事偵察難上加難，為此我們有必要借助某些精密設備，更快的找到*罪第一現(xiàn)場，更快找到真兇，還原事情真相，作出公正的判罰。掃描電鏡在司法鑒定行業(yè)發(fā)揮著不可忽略的作用，它具有檢測快速簡便，取材少，無損檢測，放大倍數(shù)高等一系列優(yōu)點，成為刑事技術檢測的重要工具。ZEM15掃描電鏡是澤攸科技自主研發(fā)的鎢...

在現(xiàn)代制造業(yè)和科研領域，平面度的精確測量至關重要。無論是汽車發(fā)動機的缸蓋密封性檢測，還是航空發(fā)動機葉片的平整度評估，都需要依賴高精度的測量工具。白光干涉儀，憑借其優(yōu)秀的橫向和縱向分辨率，已成為平面度測量的選擇利器。白光干涉儀的工作原理基于光的干涉現(xiàn)象。當一束白光照射在待測物體表面時，會形成反射光和透射光。這兩束光相遇后，會產(chǎn)生干涉現(xiàn)象，形成明暗相間的干涉條紋。干涉條紋的形狀和間距與物體表面的形貌密切相關。通過比較標準平面和待測物體表面的干涉條紋，我們可以精確計算出待測物體表面...

在現(xiàn)代科技飛速發(fā)展的今天，精密測量儀器的設計不僅要滿足高精度的測量需求，更要注重美觀與集成的便捷性。三維共聚焦白光干涉儀測量頭，以其杰出的性能和特殊的設計，成為了市面上最漂亮的可集成區(qū)域共聚焦傳感器之一。這款測量頭的設計充分體現(xiàn)了現(xiàn)代工業(yè)設計的精髓。其外觀簡潔流暢，線條優(yōu)美，無論是從哪個角度看，都透露出一種精致的美感。同時，它的體積小巧，結(jié)構緊湊，這使得它在集成到各種測量系統(tǒng)中時，能夠輕松融入，不會占用過多空間，也不會干擾到其他設備的正常運行。更重要的是，這款三維共聚焦白光干...

在當今的材料科學與納米技術領域，原位分析技術已經(jīng)成為科學家們探索微觀世界至關重要的工具。其中，澤攸科技推出的SEM（掃描電子顯微鏡）和TEM（透射電子顯微鏡）原位分析系統(tǒng)，以其杰出的性能和廣泛的應用領域，贏得了國內(nèi)外科研人員的廣泛贊譽。SEM原位分析系統(tǒng)通過電子束掃描樣品表面，利用二次電子、背散射電子等信號成像，能夠直觀展示樣品的表面形貌和化學成分分布。這一技術不僅分辨率高，而且景深大，使得樣品表面的微小細節(jié)得以清晰呈現(xiàn)。更重要的是，澤攸SEM原位分析系統(tǒng)還配備了原位拉伸、加...

Sensofar共聚焦白光干涉儀是一種高性能的3D光學輪廓測量儀器，其結(jié)合了共聚焦、干涉測量等多種先進技術，實現(xiàn)了對物體表面形貌的高精度測量。以下是對其測量原理與技術的詳細解析：一、測量原理干涉測量原理干涉技術的基本原理是將光分成光學傳播路徑不同的兩個光束，然后再合并，從而產(chǎn)生干涉現(xiàn)象。在干涉物鏡的作用下，顯微鏡可以作為干涉儀工作。當焦點對準后，可在樣本上觀察到干涉條紋。這些條紋的強度和相位信息反映了樣本表面的高度信息。共聚焦測量原理共聚焦技術通過多個光源和探測器組合，實現(xiàn)對...