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白光干涉輪廓儀:平面度測(cè)量的精密之眼

更新時(shí)間:2025-02-18點(diǎn)擊次數(shù):60
  在精密制造領(lǐng)域,平面度測(cè)量是評(píng)價(jià)工件質(zhì)量的關(guān)鍵指標(biāo)。白光干涉輪廓儀作為一種非接觸式光學(xué)測(cè)量?jī)x器,憑借其納米級(jí)的分辨率和快速測(cè)量能力,已成為平面度檢測(cè)的重要工具。
  西班牙Sensofar平面度測(cè)量白光干涉輪廓儀的核心原理是基于白光干涉的相干測(cè)量技術(shù)。儀器通過(guò)分光鏡將光源分為測(cè)量光和參考光,當(dāng)兩束光重新匯合時(shí)會(huì)產(chǎn)生干涉條紋。通過(guò)精密CCD相機(jī)捕捉干涉圖像,結(jié)合相移算法,可以重建出被測(cè)表面的三維形貌?,F(xiàn)代儀器的垂直分辨率可達(dá)0.1nm,橫向分辨率達(dá)到1μm,測(cè)量速度比傳統(tǒng)接觸式測(cè)量快10倍以上。
  在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,該儀器發(fā)揮著不可替代的作用。晶圓表面的平面度直接影響芯片制造良率,要求控制在納米級(jí)別。某半導(dǎo)體企業(yè)采用該儀器后,晶圓檢測(cè)效率提升了80%,產(chǎn)品良率提高了2個(gè)百分點(diǎn)。儀器還能用于光刻機(jī)掩模版的檢測(cè),確保曝光精度。
  精密光學(xué)元件加工是另一個(gè)重要應(yīng)用領(lǐng)域。激光反射鏡、光學(xué)平板等元件要求表面平面度達(dá)到λ/20(λ=632.8nm)。通過(guò)白光干涉輪廓儀的全場(chǎng)測(cè)量,可以快速定位加工缺陷,指導(dǎo)修拋工藝。某光學(xué)器件制造商的應(yīng)用數(shù)據(jù)顯示,使用該儀器后,產(chǎn)品合格率提升了15%,生產(chǎn)成本降低了20%。
  隨著智能制造的發(fā)展,白光干涉輪廓儀正朝著智能化、自動(dòng)化方向演進(jìn)。新型儀器配備自動(dòng)對(duì)焦、多區(qū)域測(cè)量功能,可與機(jī)械手集成實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)檢測(cè)。通過(guò)與AI算法結(jié)合,能夠?qū)崿F(xiàn)缺陷的智能識(shí)別和分類。未來(lái),儀器將在更多精密制造領(lǐng)域推廣應(yīng)用,為提升產(chǎn)品質(zhì)量提供可靠保障。
  最后,展示一組西班牙Sensofar平面度測(cè)量白光干涉輪廓儀的外觀圖片,以便您更好地了解它!
 

 

 
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